Voor UV lag de nadruk op de laatste dag van het congres op toepassingen op grote schaal en op natuurlijk water. Verder was er aandacht voor de mogelijke vorming van bijproducten door bestraling met UV-licht. Er was veel belangstelling voor de presentaties van Minne Heringa (KWR) en Bram Martijn (PWN), die allebei aangaven dat, met name bij het gebruik van middendruk lampen, genotoxische bijproducten gevormd kunnen worden, maar dat die ook weer relatief eenvoudig zijn te verwijderen door bijvoorbeeld filtratie over actieve kool. Andere lezingen gingen vooral over de vorming van bijproducten in aanwezigheid van chloorverbindingen (bij desinfectie-toepassingen). Daarnaast was er veel aandacht voor modellering van reacties. Het wetenschappelijke programma werd afgesloten met de uitreiking van een hele verzameling aan 'prijzen' en eervolle vermeldingen, zowel op het gebied van UV als op het gebied van ozon.

 

Roberta Hofman-Caris,

scientific researcher

Op de tweede dag van het IOA en IUVA congres in Parijs was er veel aandacht voor 'Advanced Oxidation Processes' (AOPs). Hierbij ging het vooral om de effectiviteit van de verschillende AOP’s voor de omzetting van bepaalde typen organische verontreinigingen. Ook de mogelijke vorming van nevenproducten was onderwerp van diverse presentaties. Men bleek daarbij vooral gekeken te hebben naar welke producten er gevormd kunnen worden, wanneer een bepaalde microverontreiniging met behulp van radicalen wordt geoxideerd. Een ander onderwerp dat veel aandacht trok was de toepassing van ozon- en UV-technologie op productieschaal, en de validatie van processen en reactoren.

 

Naast de lezingen waren er enkele postersessies. Die werden vooraf gegaan door introducties, waarin de auteurs van de posters in vijf minuten een korte presentatie mochten geven over hun onderwerp. Dat bleek goed te werken: vrijwel alle auteurs hielden zich aan de tijd en het publiek kreeg een indruk van welke poster interessant zou kunnen zijn, en welk gezicht daar dan bij hoort. In de pauzes was er gelegenheid de expositie te bezoeken, waar 17 bedrijven, vooral op het gebied van ozon- en UV-technologie, zich presenteerden.

 

Klik hier voor meer informatie over het congres Ozone and UV, Leading-edge science and technologies.

 

 

Roberta Hofman-Caris,

scientific researcher

Gisteren, 23 mei. Een mooie, zonnige dag in Parijs. Een hele rij mensen, allemaal voorzien van een plakaat met hun naam erop aan een keycord, dromt over de brug over de Seine naar een boot, waarop de lunch geserveerd gaat worden. Dit zijn deelnemers aan het gezamelijke congres van de International Ozone Association (IOA) en de International Ultraviolet Association (IUVA). Drie dagen lang zullen zij in vier parallel sessies zich bezighouden met allerlei aspecten van ozon- en UV-technologie. De IOA is de oudste vereniging (met meer dan 1300 leden), en houdt nu voor de twintigste keer haar congres. Voor de IUVA, die ongeveer 500 leden telt uit 35 landen, is dit het zesde congres. In totaal zijn er 335 abstracts ingediend voor dit congres, waaruit 278 presentaties zijn geselecteerd, die afkomstig zijn uit 45 verschillende landen.

 

Opvallend was dat er dit jaar maar liefst 59 bijdragen zijn, die door researchgroepen van twee of drie landen samen zijn geschreven. Nederland heeft op dit congres negen bijdragen. Hiervan waren er vandaag al drie te horen: van Bas Wols (KWR) over de vergelijking van CFD, biodosimetrie en Lagrangian Actinometrie in UV reactoren, van Paul Buijs (Berson) over de beperkingen van UV validatie, en van ondergetekende over het onlangs afgeronde project ‘New concepts of UV/H2O2 oxidation’ (een samenwerking tussen KWR, Philips, Dunea en Greater Cincinnati Water Works). Er was veel belangstelling voor deze onderwerpen.

 

Roberta Hofman-Caris,

Scientific researcher